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隨著x射線熒光分析儀的不斷完善和發展，x射線熒光分析技術已廣泛應用于冶金、地質、礦產、石油、化工、生物、醫療、刑偵、考古等多個部門和領域。x射線熒光光譜分析不僅成為化學元素的材料和階段,化學、固體結構,測試實物證據材料、產品和材料質量的無損檢測,對人體的醫學檢查和微光刻等重要的分析手段,檢查電路、和材料科學、生命科學、環境科學等廣泛采用一種更快速、準確的分析方法和經濟元素。同時，x射線熒光分析儀也是現場分析和過程控制分析的選擇儀器之一。
在痕量組分的測定中，x射線管連續x射線產生的散射線會產生較大的背景，難以觀察到目標峰。為了減少或消除的背景和特征譜線的散射x射線高靈敏度分析、熒光分析儀的影響配置了4種過濾器可以自動開關,有效地降低了背景和散射光的干擾,調整敏感的輻射,進一步提高信噪比,可以更高靈敏度的痕量分析。
x射線熒光分析儀廠家的x射線管連續x射線產生的散射線會產生較大的背景，軟件可以自動過濾背景對分析結果的干擾。這確保了快速和準確的分析任何塑料樣品。
當某些元素的電子從高能級躍遷到低能級時，釋放的能量是相似的，這就會使此時的光譜波峰重疊這就產生了重疊的峰。開發的軟件自動條帶重疊峰，保證了元素分析的正確性。
逃逸峰是指由于探測器的靈敏物質對本身的特征X射線是透明的，因此它很容易穿過靈敏區域而不被記錄，損失掉一特定的能量，在全能峰的低能側出現的一個譜峰。由于采用硅針半導體探測器，所以當x射線熒光進入探測器時，如果有一定的元素含量越高或能量越高，越有可能被硅吸收。在這一點上，光譜圖中元素的能量該值減去Si能值產生一個峰值，即逃逸峰值。在電壓不穩定的情況下，掃描譜的漂移可以自動跟蹤和補償。
